서울대 반도체공동연구소, 엘오티베큠으로부터 ‘HD1200’ 고진공 펌프 기증 받아

스퍼터링·ALD 장비 성능 개선해 미세박막 연구 강화 예정

안영만 기자 / 서울대학교 반도체공동연구소는 반도체 진공장비 전문기업 엘오티베큠(LOT Vacuum)으로부터 고진공 스크루 펌프 ‘HD1200’ 2대를 기증받았다고 밝혔다.

▲왼쪽부터 서울대학교 반도체공동연구소 김재하 운영부장, 엘오티베큠 박현기 상무, 서울대학교 반도체공동연구소 이혁재 소장, 엘오티베큠 오흥식 회장, 이종호 전 과학기술정보통신부 장관(서울대학교 전기정보공학부 교수), 엘오티베큠 조대식 사장

HD1200은 10-3 Torr(10-1 Pa)급의 안정적인 고진공을 신속히 확보·유지할 수 있는 장비로, 금속 스퍼터링(sputtering)과 원자층증착(Atomic Layer Deposition·ALD) 공정에서 필요한 배기 계통의 핵심 구성 요소다.

최근 열린 기증식에는 반도체공동연구소의 이혁재 소장, 김재하 연구부장, 이종호 전기정보공학부 교수(前 과학기술정보통신부 장관), 박순오 장비운영실장과 엘오티베큠의 오흥식 회장, 조대식 사장, 박현기 상무가 참석해 산학 협력의 의미를 되새기는 자리를 가졌다.

이혁재 반도체공동연구소장은 “HD1200 도입으로 스퍼터링·ALD 장비의 베이스 압력 안정성이 크게 향상돼 미세 금속막 특성의 재현성과 데이터 신뢰도가 높아질 것”이라며 “향후 연구소 내부 공정 장비의 진공 품질을 강화해 전반적인 교육·연구 환경을 한층 더 업그레이드할 계획”이라고 밝혔다.

오흥식 엘오티베큠 회장은 “진공 펌프는 반도체 공정 장비의 성능과 직결되는 핵심 요소”라며 “앞으로도 국산 고진공 기술을 활용해 학계와 산업계가 함께 성장하는 상생 모델을 확립하겠다”고 말했다.

서울대 반도체공동연구소는 이번 기증을 통해 공정 장비의 진공 품질을 한층 끌어올리고, 금속 박막 공정 연구 및 교육 인프라를 고도화해 국내 반도체 기술의 경쟁력 향상에 기여한다는 방침이다.

한편 2002년 설립된 엘오티베큠은 독자적 기술로 상용화한 건식 스크루 펌프, 터보 분자 펌프 등 고진공 솔루션을 국내 반도체·디스플레이 생산 라인에 공급해 온 기업이다. 최근에는 에너지 효율형 펌프 제품군을 확장함과 동시에 대학·연구기관 대상 장비 지원 프로그램을 꾸준히 운영하며 반도체 생태계 기여도를 높이고 있다.